L’ICPEES vient d’accueillir un nouveau spectromètre de photoémission à rayons X (XPS) PHI GENESIS, installé au sous-sol du bâtiment R3.
Cette acquisition majeure renforce les capacités analytiques de la Plateforme Spectroscopique d’Analyse de Surfaces (PSASI), dédiée à la caractérisation des matériaux par techniques spectroscopiques avancées.
- Période d’installation et de formation : trois semaines
- Localisation : sous-sol du bâtiment R3, ICPEES
- Responsable scientifique : Spiros Zafeiratos
- Responsable technique : Vasiliki Papaefthymiou
Fonctionnalités principales
- Analyse XPS rapide et automatisée.
- Haute résolution énergétique, idéale pour l’étude fine des états chimiques et des interfaces complexes.
Ce nouvel instrument permettra de soutenir les projets du laboratoire dans les domaines de la catalyse, des matériaux fonctionnels, des polymères et des surfaces hybrides, tout en ouvrant la plateforme à de nouvelles collaborations académiques et industrielles.
Un grand merci à Muhammad Younas et Bruno Abert de PHI Europe, pour leur patience et leur disponibilité tout au long de l’installation et de la formation.
